삼성, 2세대 10nm FinFET 양산 개시

■ 출처

- https://www.techpowerup.com/239249/samsung-starts-mass-production-of-its-2nd-generation-10nm-finfet

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삼성전자가 자사의 파운드리 사업에서 2세대 10nm FinFET 공정 기술인 10LPP(Low Power Plus)기술 기반의 SoC 제품들의 대량 생산을 시작했다고 발표했습니다. 10LPP 공정 기술은 1세대 10nm 공정 기술(10LPE-Low Power Early) 대비 최대 10% 높은 성능이나 15%낮은 전력 소비를 가능하게 해주는 기술입니다. 이 기술은 이미 입증된 10LPE 기술에서 유래되었기에 개발에서 생산에 이르기까지의 시간을 획기적으로 줄이고 초기 제조 수율을 높여 경쟁 우위를 제공합니다. 10LPP 기술이 적용된 SoC는 내년 초에 출시될 예정인 디지털 장치에 사용될 것이라고 하며, 내년에 많이 보급될 것이라고 합니다.

또한 삼성은 화성에 있는 최신 제조 라인인 S3에서 10nm 이하의 공정 기술 생산을 준비(ready to ramp up)하고 있다고 발표했으며, EUV(Extreme Ultra Violet)가 적용된 삼성의 7nm 공정 기술 역시 S3 라인에서 대량 생산될 것이라고 합니다.