삼성전자, EUV 7nm LPP 개발 완료, ArF 액침 노광으로 비용 절감 커
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- https://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/1148566.html- https://news.samsung.com/global/samsung-electronics-starts-production-of-euv-based-7nm-lpp-process 삼성전자가 10월 18일, EUV(Extreme Ultra-Violet)노광을 채용한 7nm LPP(Low Power Plus)의 제조 기술 개발을 완료했으며 이 기술을 사용한 반도체 생산을 시작한다고 발표했으며, 추가로 3nm 프로세스에 대한 로드맵도 확정했다고 합니다. 기존의 ArF 액침 노광은 193nm 파장 밖에 사용하 수 없어 비싼 멀티 패턴 마스크 세트가 필요했지만 EUV 노광기술은 13.5nm 파장을 사용해 1장의 마..